Установка
безмасковой лазерной литографии повышенной точности
Твердотельный
лазер с диодной накачкой ультрафиолетового
диапазона с длинной волны 355 нм, до 15 мВт
Максимальный
размер подложки до 225 х 225 мм2 (опция 425 х 425 мм2)
Толщина
подложек до 9 мм
Максимальная
область экспонирования 200 х 200 мм2 (опция 400 х 400 мм2)
Минимальный
размер структурного элемента 0,5 / 0,7 мкм
Размер
адресной сетки 5 / 10 нм
Режимы
многократного нанесения рисунка
Шероховатость
линии 20 / 40 нм
Точность
совмещения второго слоя 100 нм
Автоматическая
система загрузки
Скорость
экспонирования 325 мм2/мин / 580 мм2/мин
Дифференциальный
интерферометр с разрешением 1,2 нм
Поддержка
форматов DXF, MEBES, OASIS, CIF, GDSII, Gerber
Размер
установки (ШхГхВ) 1560 х 1215 х 2100 мм, масса 3050 кг
Размер
блока управления (ШхГхВ) 800 х 650 х 1800 мм, масса 180 кг
Встроенная прецизионная система
поддержания микроклимата ±0,02 ОС, класс чистоты в рабочей зоне
установки ИСО 4. Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС,
класс чистоты ИСО 5.